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半導體行業潔凈室要關注的幾大要點

一、半導體潔凈室要控制的的主要因素

1、潔凈室溫度：23±1℃

2、潔凈室濕度：45±3%rh

3、潔凈室噪聲：煩惱效應，語言通訊干擾，影響工作效率，低頻噪聲影響設備

4、潔凈室壓力：正壓與負壓是相對而言，一個潔凈室對大氣而言是正壓潔凈室，但對另外一個房間而言可能是負壓潔凈室。不同等級的潔凈室以及潔凈區與非潔凈區之間的壓差不小于5Pa，潔凈區與室外的壓差不小于10Pa.

5、潔凈室靜電：地面的面層應具有導電性能，并應保持長時間性能穩定，采用靜電耗散性材料，地面應設有導電泄放措施和接地構造，流動液體，氣體或粉體管道應采取防靜電接地措施。

6、潔凈室振動：*密設備、*密儀器儀表的容許振動值應由生產工藝和設備制造部門提供。振動尤其對光刻設備影響**。

7、潔凈室潔凈度：半導體潔凈室控制的重中之重

生產區：1000級

黃光區：100級

Mask光罩區：10級

二、如何控制潔凈室內顆粒物?

通常通過服裝，MAU，FFU及入口的風淋室等控制手段，可有效控制顆粒物的產生

潔凈室：空氣懸浮粒子濃度受控的房間。它的建造和使用應減少室內誘入、產生滯留粒子。室內其它有關參數如溫度、濕度、壓力、靜電、振動、噪聲等按要求進行控制。

為什么半導體行業需要建造潔凈室：由于半導體工業所制作的集成電路元件尺寸越來越小，在一塊小小的芯片上，整合了許許多多的元器件，因此在制造的過程中就要防止外界雜質污染源(包括塵埃、金屬離子、各類有機物等)，因為這些污染源可以造成元器件性能的劣化及產品成品率和可靠性的降低。所以制造集成電路需要在潔凈的環境中進行，以盡量將污染源和硅片隔離。